結構位置差異之進步性判斷案例
 

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結構位置差異之進步性判斷案例

結構位置差異之進步性判斷案例

一、 判決字號:智慧財產及商業法院112年度行專訴字第24號


二、 爭點:證據組合是否足以證明系爭專利不具進步性?


三、 系爭專利:I569743具足部三維運動控制及足壓分散之裝置


四、 原告主張證據3及5不足以證明系爭專利不具進步性:

 

(一) 證據2未揭露系爭專利足弓支撐本體10用以支撐足部的橫弓120與外側縱弓130的特徵;證據2外殼層301並未揭露系爭專利足弓支撐本體10係由內側縱弓110、橫弓120與外側縱弓130的弧度匹配形成的立體結構的特徵。

 

(二) 證據2說明書記載有「外殼層301具有收納殼體302用於收納模製緩衝層501的突出根部部分508…外殼層301繼續以突出延伸305朝向跟部區域之後部在矯具上二側延伸以包圍模製緩衝層501之突出根部部分508」,與系爭專利係因應扁平足或低弓足腳型、高弓足腳型或正常弓腳型的構造特徵不同。 

(三) 系爭專利後足運動調整部20係由足弓支撐本體10後端10b一側向跟骨處延伸,與證據2由骨跟區域之任一側上延伸一對具有一第一末端及一第二末端之突出延伸305,二者技術特徵和功效目的不同。


(四) 證據3並未揭露系爭專利剛性加強部12係由該足弓支撐本體10的後端10b中部一直延伸至相應足部的外側縱弓處130的技術特徵。

五、 系爭專利技術分析:


(一) 系爭專利所欲解決的問題:
習知的足弓墊對因扁平足或高弓足而造成的肌肉酸痛確實有幫助,但此方法僅墊高了舟狀骨之內側中足部(midfoot),僅能用於改善中、前足的相對運動,對足跟外翻過多的扁平足及旋前不足的高弓足患者,無法有效改善其距骨下關節的運動。 


(二) 系爭專利之技術手段:
系爭專利提出一種具足部三維運動控制及足壓分散之裝置,用以有效控制足部關節的相對運動以調整足跟著地角度及調整足底相對足壓,其包括一足弓支撐本體,該足弓支撐本體用以支撐足部的內側縱弓、橫弓與外側縱弓,該足弓支撐本體後端至少一側向相應足部的跟骨位置延伸一後足運動調整部,用以調整足跟著地角度,該足弓支撐本體係該內側縱弓、橫弓與外側縱弓的弧度匹配形成的立體結構。 


(三) 系爭專利之功效:
揭示一種具足部三維運動控制及足壓分散之裝置,該具足部三維運動控制及足壓分散之裝置用以支撐足弓部及跟骨部,不占用過多鞋內空間,且可調整過多的距骨下關節的內外翻,及足踝的旋後及旋前運動角度,減少下肢肌肉的不當動作,改善步行或跑步時肌肉疲勞,減少骨骼肌肉的傷害。


六、 系爭專利請求項5:


一種具足部三維運動控制及足壓分散之裝置,用以有效控制足部關節的相對運動以調整足跟著地角度及調整足底相對足壓,其包括:一足弓支撐本體10,該足弓支撐本體10用以支撐足部的內側縱弓110、橫弓120與外側縱弓130,該足弓支撐本體後端10b至少一側向相應足部的跟骨位置延伸;一後足運動調整部20,用以調整足跟著地角度,該足弓支撐本體10係該內側縱弓110、橫弓120與外側縱弓130的弧度匹配形成的立體結構,其中該後足運動調整部20於該足弓支撐本體後端10b由相應骰骨側向後延伸至跟骨處,其中更包括一剛性加強部12,該剛性加強部12係設置於該足弓支撐本體10表面,其係由該足弓支撐本體10的後端中部一直延伸至相應足部的外側縱弓130處。

七、 法院見解:

 

(一) 證據2圖1~15及對應之說明書第22頁已揭露外殼層301…之結構形狀、位置與足部的內側縱弓、橫弓與外側縱弓相互對應,足以支撐內側縱弓、橫弓與外側縱弓。

 


(二) 證據2請求項10及圖6已揭露外殼層301在該跟骨區域之任一側上延伸一對具有一第一末端及一第二末端之突出延伸305,且該等突出延伸305以恰好終止於該跟部區域後的該第一末端及該第二末端包圍任一側上之該跟部部分。

 


(三) 證據3第5圖已揭露支撐塊322及332係由支撐座3的後端分別延伸至足部的內側縱弓及外側縱弓處;且證據3說明書第0023段第5行已揭露該支撐座3還令該內撐部32與該外撐部33之該等支撐塊322、332橫向延伸,以具有受壓變形且可彈性回復之力學能蓄積功能,可強化支撐力;且說明書第0017~0025段及圖1~6已揭露依足部動態或靜態之不同實施需求,可將支撐座3的支撐塊322、332的形狀、位置及排列方式做不同之改變,因此所屬技術領域中具有通常知識者,自可將支撐塊322、332的起始位置調整為支撐座3的後端中部,為簡單變更。


八、 結論:

 

原告主張證據3未揭露系爭專利剛性加強部12係由該足弓支撐本體10的後端10b中部一直延伸至相應足部的外側縱弓處130的技術特徵。

 

惟法院認為,證據3可將支撐座3的支撐塊322、332的形狀、位置及排列方式做不同之改變,因此所屬技術領域中具有通常知識者,自可將支撐塊322、332的起始位置調整為支撐座3的後端中部。

 

法院見解對應系爭專利說明書中,其實揭露「足弓支撐本體10表面的該剛性加強部12亦可使過度旋前及過度旋後的踝關節調整為正常的著地角度,藉由該剛性加強部12所設置位置的不同,可控制足弓支撐本體10表面剛性的分布,藉此減少相對應足弓處的下降程度進而調整及控制足底壓力分佈。」

 

雖然系爭專利技術特徵(剛性加強部)設置的位置與證據並未完全相同,但若系爭專利沒有特別限定位置所帶出的功效與先前技術不同,容易被認定為簡單變更。

 

作者:江日舜 專利師

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